In diesem Video demonstriert IPG Photonics ein Konzept zur Wafererwärmung, das auf der Beleuchtung von 200-mm-Siliziumwafern (Si) mit einem Nahinfrarotlaser (NIR) basiert. Unsere Ergebnisse deuten darauf hin, dass die Verwendung einer Laserlösung zur Wafererwärmung attraktive Energie- und Zykluszeitersparnisse bietet.

Über die mit der Lasererwärmung verbundenen Energieeinsparungen hinaus wird durch die in der Demonstration verwendete Laserausrüstung eine zusätzliche Effizienzsteigerung erzielt. IPG DLS-ECO-Nahinfrarot-Diodenlaser bieten einen Wirkungsgrad von mindestens 55 % bei der Umwandlung von elektrischer Energie in projiziertes Licht. Ein projizierter Laserstrahl kann so geformt werden, dass der Energieverlust außerhalb des Waferumfangs minimiert wird, wodurch die Energieverschwendung durch die Erwärmung der Kammeratmosphäre und der Wände minimiert wird.

Darüber hinaus wird die Laserenergie über eine lange (bis zu 50 m) Faser übertragen, sodass die Wärmequelle außerhalb des Reinraums verbleiben kann. Da außer auf der Zieloberfläche des Wafers keine nennenswerte Wärme in der Nähe des Prozesses entsteht, belasten Laserheizungen die Reinraumversorgungssysteme deutlich weniger.

Um mehr über ein Mehrzonen-Spot-Heizkonzept für Siliziumwafer zu erfahren, können Sie sich hier eine animierte Darstellung des Prozesses ansehen.

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